上图是具有不同用途的金刚石薄膜产品，其中左上角是独立式金刚石薄膜，右下角是在Si衬底上的金刚石薄膜.
产品说明：CVD金刚石薄膜
概述：
我们可以提供厚度低至50nm的独立式金刚石薄膜。它们分别用于以下几个方面：
• 超薄X-射线窗口
• 重离子辐射探测器
• 高能粒子辐射发光屏
• 产生高离化粒子的剥离膜
• 激光加速膜
这样的金刚石薄膜可以采用独立式的，也可以用CVD技术沉积到附加的支撑基底上。
CVD金刚石薄膜规格参数：
|
材料
|
CVD光学级金刚石
|
|
导热系数
|
>1800 W/mK
|
|
表面
|
双面抛光，表面粗糙度< 10 nm rms
|
|
尺寸
|
直径可达76 mm（依赖于厚度）
|
|
厚度
|
在50nm（更薄，可根据要求）和几十μm之间
|
|
镀膜
|
金属化或介质层
|
|
装配
|
独立式或附加到支撑体上
|
|
